数字电子技术基础3

简介: 数字电子技术基础

数字电子技术基础初学者通识课程可跟B站上海交通大学郑益慧教授主讲电子技术基础课程。现将配套使用笔记发布如下,文件版可私信领取,时间紧迫,顺序混乱,还请海涵:

基础概念合集

接上文----戴维南等效定理

放大倍数

通频带

非线性失真,最大不失真输出电压,最大输出功率与效率,P12放大电路分析方法

直流通路与交流通路,直流通路,交流通路:直流电源置零,电容短路

图解法

等效电路分析方法

1.直流通路—Q点,rbd

P13 H参数

共集电极放大电路----射极跟随器,P16,P17场效应管放大电路,晶体管放大电路派生电路

,复合管放大电路(达林顿管)

共射-共基放大电路

共集-共基放大电路

电子管(1904年)——电子技术的时代开始了

三极管(1906年)——电子技术工业gm的开始

集成电路的发展——半导体技术的发展,晶体管集成运算放大器,反馈电路。

从器件的基本特性来设计电路。———这是比较高级的。

模拟电路和数字电路——AD转换这桥梁

02-PN结的形成 P2 - 13:12参入少量,但远高于原来浓度,虽然参入少量,载流子的浓度远高于原来的本征半导体的浓度。,02-PN结的形成 P2 - 16:01温度对于载流子的影响,

温度对于多子的影响不大,因为多子本来就很多了;但对于少子的影响非常的大。半导体器件和少子相关则受温度的影响就很大。——想问题想一个关键性。N型半导体——参入P,因为其贡献了电子,称其为施主原子。02-PN结的形成 P2 - 20:41P型半导体

参入硼(B)

02-PN结的形成 P2 - 23:08PN结

扩散运动——浓度高的地方到浓度低的地方,P区的空穴向N区扩散,N区的电子向P区扩散

——形成了PN结(空间电荷区)(耗尽层)(阻挡层),飘移运动——少子在耗尽层力作用下的运动

02-PN结的形成 P2 - 36:25PN结的单向导电性

加正向电压:外电场消耗了内电场(相当于堤坝被高度下降了,可以看下图)——扩散运动重新恢复(加入限流电阻)

加反向电压:耗尽层加宽(但此时的漂移运动加强了,但电流量很小)

PN结的电流方程:

Is:反向饱和电流,UT:温度当量,与温度相关。常温下UT=26mv,U:外加电压

导通电压:Ge管0.2-0.3v si管0.6-0.7V,二极管正向导通电流呈指数型增长

03-PN与二极管的特性 P3 - 02:52反向击穿

雪崩击穿:掺杂浓度低时—温度越高,击穿电压越高——链式反应

达到一定的程度就由电击穿转向热击穿,只要没有到到达热击穿,则都是可逆的,齐纳击穿:掺杂浓度高时—温度越高,击穿电压越低,击穿电压高于6V为雪崩击穿,低于6V为齐纳击穿,电流过大,导致温度过高,就把PN结烧坏了。反向击穿可以用来稳压03-PN与二极管的特性 P3 - 17:28PN结的电容效应

势垒电容——非线性

扩散电容——非平衡少子和电压之间的关系

电压升高的时候达到浓度2这根线;电压降低是达到3这根线。

03-PN与二极管的特性 P3 - 23:39半导体二极管

03-PN与二极管的特性 P3 - 30:57二极管的伏安特性

体电阻的存在,正向电流比PN结小一些;反向电流大一些,室温下,每上升1度,正向压降减小2-2.5mv,每升高10度,反向电流增加1倍,二极管的作用:整流、稳压管(钳制电位)、温度传感器(反向电流的改变对于温度比较敏感),04-二极管的直流等效电路 P4 - 05:10二极管的主要参数

1、IF:最大整流电流(二极管工作时通过的电流值)

2、UR:最高反向工作电压

3、IR:反向截止电流

4、fM:最高工作频率(选择高频电路的二极管时要考虑)

04-二极管的直流等效电路 P4 - 16:38二极管的等效电路

a:理想二极管

b:把导通电压Uo分离出来(使用最多)

c:考虑了二极管的电阻

限幅电路——一导通就限制了幅值

Ui的值比较小,这时候加一个大的直流电压V,使得二极管导通。这个时候在输出端就可以检测到Ui的值。看下图


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