HUAWEI DevEco Studio 3.0 Beta3 全面支持 OpenHarmony 应用开发

简介: HUAWEI DevEco Studio 自 2020 年 9 月发布以来,经过 10 次升级,不断为 HarmonOS 应用开发增强能力。4 月 18 日,DevEco Studio 3.0 Beta3 版本上线,该版本新增 OpenHarmony 应用开发场景,全面支持开发者开发 OpenHarmony 应用及服务。

HUAWEI DevEco Studio 自 2020 年 9 月发布以来,经过 10 次升级,不断为 HarmonOS 应用开发增强能力。4 月 18 日,DevEco Studio 3.0 Beta3 版本上线,该版本新增 OpenHarmony 应用开发场景,全面支持开发者开发 OpenHarmony 应用及服务。

HUAWEI DevEco Studio 是基于 IntelliJ IDEA Community 开源版本打造,面向终端全场景多设备的一站式集成开发环境(IDE),同时支持 OpenHarmony 和 HarmonyOS 应用/服务(Application/Service)开发。

作为一款开发工具,除了具有基本的代码开发、编译构建及调测等功能外,DevEco Studio 支持多种 HarmonyOS 设备的应用/服务开发,多设备统一开发环境;支持多语言的代码开发和调试、FA(Feature Ability)和 PA(Particle Ability)快速开发、分布式多端应用/服务开发、多设备模拟器/预览器。

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DevEco Studio 3.0 是 HarmonyOS 3.0 和 OpenHarmony 3.1 应用及服务开发配套的集成开发环境(IDE),支持 ArkUI 声明式编程规范、低代码开发、双向预览、全新构建工具、ArkCompiler 方舟编译、模拟器、分布式调试调优、原子化服务体检、信息中心、汉化等功能。

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值得关注的是,DevEco Studio 3.0 Beta3 全新打造工具。提供 OpenHar/e 的、基于 JS 领域的打包和包管理技术,DevEco Studio 构建工具。这是一个全新的基于 TS 实现的轻量级提供工具,结合 NPM 领域包管理机制,主要提供任务管理机制、注册排列、工程管理、配置管理、全新的 JS/键通模式应用等关键能力。

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除了以上主要更新点,本次新版本还提供了 HiLog 日志系统,方便开发者设备的日志信息,同时提供了各种过滤方式,并且支持离线输出日志信息到本地。

DevEco Studio3.0 Beta3 还在支撑 evHarmonyOS 应用开发的功能上做了增强。如支持一键式生成自动化签名、本地支持路径“自定义”部署;支持远程支持且 P Preview40 Pro 2 小时后使用,由用户延长 1 小时延长使用时间延长至 2 小时。

更多 DevEco Studio3.0 Beta3 版本升级细节可访问https://developer.harmonyos.com/cn/develop/deveco-studio/release进行了解

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