本节书摘来自华章出版社《CMOS集成电路后端设计与实战》一 书中的第3章，第3.1节，作者：刘峰，更多章节内容可以访问云栖社区“华章计算机”公众号查看。
第3章
后端全定制设计之标准单元设计技术
集成电路制造工艺已经向超深亚微米和纳米迈进，标准单元库的设计面临着新的挑战。标准单元库的成功开发对单元库的开发者来说变得越发艰巨，不仅用户的需求越来越高，集成电路设计的环境也越来越复杂。
标准单元库是集成电路设计的基础，它的质量和性能对集成电路的设计来说至关重要。具备自行设计标准单元库的后端设计能力能够大大地提升集成电路设计性能并对特殊需求的设计进行灵活优化。
